³ëÁؼ® (POSTECH), ÀÌÇå (°í·Á´ë) ȸ¿ø °øµ¿ ¿¬±¸ÆÀ, ¼¼°è ÃÖÃÊ °¡½Ã±¤¼± ´ë¿ª ¸ÞŸ·»Áî ´ë·® »ý»ê¡¦ ¡®½Ã³ÊÁö¡¯·Î ÇѰ踦 ±Øº¹ÇÏ´Ù
¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ ÀÌ¿ëÇÏ¿© Áö¸§ 1cm ¸ÞŸ·»Áî ´ë·® »ý»ê ¼º°ø
 
¡ã(¿ÞÂʺÎÅÍ) POSTECH ±â°è°øÇаú¡¤È­ÇаøÇаú ³ëÁؼ® ±³¼ö, °í·Á´ë ½Å¼ÒÀç°øÇаú ÀÌÇå ±³¼ö
 
ÈÞ´ëÆùÀÇ ¡®Ä«ÅöÆ¢¡¯¸¦ ¾ø¾Ö°Å³ª ¸¸È­ µå·¡°ïº¼¿¡ ³ª¿À´Â ¡®½ºÄ«¿ìÅÍ¡¯¿Í °°Àº °¡»óÇö½Ç ±â±â¸¦ ¸¸µé ¼ö ÀÖ´Â ±¤ÇмÒÀÚ°¡ ÀÖÀ»±î? 2019³â ¼¼°è°æÁ¦Æ÷·³(´Ùº¸½ºÆ÷·³)¿¡¼­ ¼±Á¤ÇÑ 10´ë ¹Ì·¡ ±â¼ú Áß ÇϳªÀÎ ¡®¸ÞŸ·»Á°¡ ±× ¿ªÇÒÀ» ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ¸ÞŸ·»Áî´Â ³ª³ë±¸Á¶Ã¼ÀÇ ¹è¿­·Î ÀÌ·ç¾îÁø, ¸Å¿ì ¾ã°í °¡º­¿î Æò¸é ±¤ÇÐ ¼ÒÀÚ·Î ÃÖ±Ù ¼¼°èÀûÀÎ ÇмúÁö ¡®³×ÀÌó Æ÷Åä´Ð½º(Nature Photonics)¡¯¿¡ ƯÁýÈ£·Î ±¸¼ºµÉ ¸¸Å­ ¸¹Àº ÁÖ¸ñÀ» ¹Þ°í ÀÖ´Ù. ÇÏÁö¸¸ ¸ÞŸ·»Á »ý»êÇϱâ À§Çؼ­´Â ¸Å¿ì Á¤¹ÐÇÑ ±â¼úÀÌ ÇÊ¿äÇÏ°í, ºñ¿ëÀûÀÎ Ãø¸é¿¡¼­µµ ºÎ´ãÀÌ Ä¿ »ó¿ëÈ­¿¡ ¾î·Á¿òÀ» °Þ°í ÀÖ´Ù.
 
POSTECH ±â°è°øÇаú¡¤È­ÇаøÇаú ³ëÁؼ® ±³¼ö¡¤±â°è°øÇаú ÅëÇÕ°úÁ¤ ±èÁÖÈÆ¡¤¼ºÁØÈ­ ¾¾, °í·Á´ë ½Å¼ÒÀç°øÇаú ÀÌÇå ±³¼ö¡¤±è¿øÁß ¾¾, Æ÷Ç×»ê¾÷°úÇבּ¸¿ø(RIST) Àü±³¼± ¹Ú»ç¡¤ÀÌ°æÀÏ ¹Ú»ç¡¤À±µ¿Çö ¹Ú»ç °øµ¿¿¬±¸ÆÀÀº ¼¼°è ÃÖÃÊ·Î °¡½Ã±¤¼± ´ë¿ª ¸ÞŸ·»Á ´ë·® »ý»êÇÏ´Â µ¥ ¼º°øÇß´Ù. À̹ø ¿¬±¸´Â ¼ÒÀç ºÐ¾ß¿¡¼­ ¿µÇâ·Â ³ôÀº ÇмúÁöÀÎ ¡®³×ÀÌó ¸ÓÅ͸®¾óÁî(Nature Materials)¡¯¿¡ °ÔÀçµÆ´Ù.
 
¿¬±¸ÆÀÀº °øÁ¤ÀÇ ÇѰ踦 ±Øº¹Çϱâ À§ÇØ ¹ÝµµÃ¼¿Í µð½ºÇ÷¹ÀÌ Á¦ÀÛ¿¡ ÀÌ¿ëµÇ´Â µÎ ±â¼úÀ» °áÇÕÇß´Ù. ¡®Æ÷Å丮¼Ò±×·¡ÇÇ(Photolithography)¡¯´Â ºû(photo)°ú ±âÆÇ Àμâ(lithography)ÀÇ ÇÕ¼º¾î·Î ºûÀ» ÀÌ¿ëÇÏ¿© »çÁøÀ» ÂïµíÀÌ ±âÆÇ¿¡ ÆÐÅÏÀ» »õ±â´Â ±â¼úÀÌ´Ù. ±×¸®°í, ¡®³ª³ëÀÓÇÁ¸°Æ® ¸®¼Ò±×·¡ÇÇ(Nanoimprint lithography)¡¯´Â ³ª³ë¼ÒÀÚ ÆÐÅÏÀÌ °¢ÀÎµÈ ½ºÅÆÇÁ¸¦ »ç¿ëÇØ ±âÆÇ À§¿¡ ÆÐÅÏÀ» Âï¾î³»´Â ±â¼úÀ» ¸»ÇÑ´Ù.
 
¿¬±¸ÆÀÀº ¸ÕÀú °í¼ÓÀüÀÚºöÀ¸·Î ÇϳªÀÇ ÆÐÅÏÀ» ¸¸µé°í, ºÒÈ­¾Æ¸£°ï(ArF) Æ÷Å丮¼Ò±×·¡ÇÇ·Î ÆÐÅÏÀ» º¹Á¦ÇÏ¿© 12ÀÎÄ¡(inch) Å©±âÀÇ ½ºÅÆÇÁ¸¦ Á¦ÀÛÇß´Ù. ±×¸®°í, ½ºÅÆÇÁ¿Í ³ª³ëÀÓÇÁ¸°Æ® ¸®¼Ò±×·¡ÇǸ¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© 1¼¾Æ¼¹ÌÅÍ(cm) Å©±âÀÇ Áö¸§À» °¡Áø ¸ÞŸ·»Á ºü¸£°Ô Âï¾î³»´Â µ¥ ¼º°øÇß´Ù.
 
±âÁ¸ ³ª³ëÀÓÇÁ¸°Æ® ±â¹ÝÀÇ ±¸Á¶Ã¼´Â ±¼Àý·üÀÌ ³·¾Æ È¿À²ÀÌ 10ÆÛ¼¾Æ® ±Ù¹æÀ¸·Î ¸Å¿ì ³·¾Ò±â ¶§¹®¿¡, È¿À²À» ³ôÀ̱â À§Çؼ­ Å« ºñ¿ëÀÌ ÇÊ¿äÇß´Ù. ¿¬±¸ÆÀÀº Âï¾î³½ ·»Áî¿¡ 20³ª³ë¹ÌÅÍ(nm) Á¤µµÀÇ ¸Å¿ì ¾ãÀº ÀÌ»êȭƼŸ´½(TiO2) ¸·À» ÄÚÆÃÇÏ¿© ·»ÁîÀÇ È¿À²À» 90ÆÛ¼¾Æ®±îÁö Çâ»ó½ÃÄ×´Ù. µÎ ±â¼úÀÇ °áÇÕÀ» ÅëÇØ °£´ÜÇÑ °øÁ¤À¸·Îµµ °í¼º´ÉÀÇ ¸ÞŸ·»Á ´ë·®À¸·Î »ý»êÇÏ´Â µ¥ ¼º°øÇÑ °ÍÀÌ´Ù.
 

À̾î, ¿¬±¸ÆÀÀº »¡°­, ³ì»ö, ÆĶûÀÇ À̹ÌÁö¸¦ ³ªÅ¸³¾ ¼ö ÀÖ´Â ÃÊ°æ·® °¡»óÇö½Ç(VR) ±â±â¸¦ Á¦ÀÛÇÏ¸ç ¸ÞŸ·»ÁîÀÇ ½Ç¿ë¼ºµµ ÀÔÁõÇß´Ù. ±âÁ¸¿¡ Á¸ÀçÇÏ´ø µÎ ±â¼úÀÇ ½Ã³ÊÁö¸¦ ÅëÇØ ¸ÞŸ·»ÁîÀÇ »ó¿ëÈ­¿¡ ÇÑ °ÉÀ½ ´õ ´Ù°¡°£ °ÍÀÌ´Ù. ¶Ç, À̹ø ¿¬±¸´Â Æ÷½ºÄÚ°¡ ¿¬±¸ºñ¸¦ Áö¿øÇÏ´Â »ê(POSCO)-ÇÐ(POSTECH)-¿¬(RIST) À¶ÇÕ¿¬±¸¼Ò»ç¾÷ 1È£·Î ¼±Á¤µÇ¾î ¾ÕÀ¸·Î ¸ÞŸ·»ÁîÀÇ »ó¿ëÈ­°¡ ź·ÂÀ» ¹ÞÀ» »Ó ¾Æ´Ï¶ó Æ÷½ºÄÚ°¡ ö°­ ±â¾÷¿¡¼­ ¹Ì·¡ ¼ÒÀç ±â¾÷À¸·Î µµ¾àÇÒ °è±â°¡ µÉ °ÍÀ¸·Î ±â´ëÇÑ´Ù.
 
¿¬±¸¸¦ À̲ö ³ëÁؼ® ±³¼ö´Â ¡°À̹ø ¿¬±¸´Â 20³â°£ »ó¿ëÈ­µÇÁö ¸øÇÏ°í ¿¬±¸ ´Ü°è¿¡¸¸ ¸Ó¹°·¶´ø ¸ÞŸ¹°Áú ¿¬±¸¸¦ »ê¾÷È­ ´Ü°è±îÁö ²ø¾î¿Ã·Á ½ÇÁ¦·Î Àû¿ëµÉ ¼ö ÀÖÀ½À» º¸¿©ÁÖ¾ú´Ù¡±¸ç, ¡°¼¼°è¿¡¼­ °¡Àå ¾Õ¼± ±â¼ú·Î °¡½Ã±¤ ´ë¿ª¿¡¼­ »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ¸ÞŸ·»Á ¿þÀÌÆÛ ´ÜÀ§·Î ´ë·® »ý»êÇϴµ¥ ¼¼°è ÃÖÃÊ·Î ¼º°øÇß´Ù´Â Á¡¿¡¼­ Å« ÀÇÀÇ°¡ ÀÖ´Ù¡±°í ÀÇ°ßÀ» ÀüÇß´Ù.
 
ÇÑÆí, À̹ø ¿¬±¸´Â Æ÷½ºÄÚ, »ï¼º¹Ì·¡±â¼úÀ°¼º¼¾ÅÍ, °úÇбâ¼úÁ¤ÅëºÎ Çѱ¹¿¬±¸Àç´Ü µîÀÇ Áö¿øÀ¸·Î ÁøÇàµÆ´Ù.
 
¡á ³í¹® Á¤º¸
*Á¦¸ñ: Scalable manufacturing of high-index atomic layer-polymer hybrid metasurfaces for metaphotonics in the visible
*URL: https://doi.org/10.1038/s41563-023-01485-5
 
-Ãâó: POSTECH ¿¬±¸¼º°ú